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産業用光干渉計測技術開発の20年を振り返って

机译:回顾20多年的工业光学干扰测量技术开发

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摘要

筆者が干渉計測技術開発に携わってからの20年を振り返り,開発した技術を紹介する.筆者が初めて光干渉計測と出会ったのは1986年のことである.当時, ポリエステルフィルムの微細な表面形状測定技術を調査中に, 位相シフト法による光干渉計測に出会い, その原理の巧妙さと高い実用性に敬服した.これが契機となり, 米国WYKO社, および, アリゾナ大学のWyant教授との長いお付き合いが始まった.その後, 1993年, 筆者が半導体検査機器事業を推進する中で, 磁気ヘッド平坦度自動測定装置を開発·商品化した.
机译:我们介绍了20年以来,我参与了干扰测量技术的发展以来的技术。这是1986年我首次首次达到光学干扰测量。同时,在聚酯薄膜的细表面形状测量技术的调查中,我们通过相移方法遇到光学干扰测量,并响应其原理的严重性和高实用性。这是触发的,并且与亚利桑那大学的妇女怀有妇女妇女教授的长期关系已经开始。然后,在1993年,作者在促进半导体检查设备业务的同时开发和商业化了磁头平坦自动测量装置。

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