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【24h】

Porenarme Lotverbindungen zur Zuverlassigkeitssteigerung und optimierten Entwarmung von Flachbaugruppen

机译:Porenary焊点,用于增加可靠性和优化的扁平模块的降解

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摘要

Innerhalb der elektronischen Flachbaugruppenfertigung zeigt sich neben dem kontinuierlichen Trend zur Miniaturisierung der Bauformen sowie der sukzessiven Implementierung bleifreier Lote (Lotprozesse) parallel eine hohe Anforderungserwartung hinsichtlich Zuverlassigkeitsaspekten auf Baugruppenebene. Die besonders neuralgischen Zonen hinsichtlich Zuverlassigkeitsanforderungen sind dabei weitgehend die Lotverbindungen, deren Dimensionierung ebenso einer fortwahrenden Miniaturisierung folgt. Etablierte Standards und Normen setzen dabei den Fokus zur Akzeptanz von Lotverbindungen (ungeachtet Dimension oder Geometrie der Lotstelle) auf die zerstorungsfreien Prufmethoden mit klarer Praferenz der visuellen Prufung. Selbst in Anlehnung an die Abnahmekriterien hochster Produktklasse (Klasse 3 bzw. Klasse C) bleiben dabei begrundete Zweifel an der Zuverlassigkeit des Gesamtsystems, wohingegen die Zulassigkeit der Aufbau- und Verbindungstechnik erfullt ist. Bezogen auf die im Avionikbereich geforderten hochzuverlassigen Systeme gewinnen additive Spezifikationen zur Wahrung der Systemzuverlassigkeit und somit bei der Abnahme von elektronischen Flachbaugruppen zunehmend an Bedeutung. Ein wesentlicher Bestandteil einer erweiterten Lotstellenbewertung ist dabei das Poren-oder Voidkriterium, welches typischer Weise via X-ray bestimmt wird. Neben der naheliegenden Kritikalitat von porenbehafteten Lotstellen unter mechanischen Wechselwirkungen verdienen vor allem auch Phanomene von Entwarmungsstorungen durch Poren(-reichtum) grossflachiger Lotstellen einer gesonderten Betrachtung. In Anlehnung an etablierte Standards sind dabei leider nur wenige SMD-Bauformen in Bezug auf Porengrenzwerte ausreichend beschrieben. Dieser Beitrag zeigt die Gefahren einer thematisch oft isolierte Betrachtung von purer Grenzwertkonformitaten bezuglich Poren, die Chancen deren Mitigation oder gar Vermeidung, sowie Ansatze zur Entwarmungsthematik durch porenbeeintrachtigte Lotstellen.
机译:除了朝向设计的小型化和连续实施连续趋势,无铅赃物(lotprocesse)被示出在平行于设计的小型化的趋势连续和连续的实现。关于可靠性的要求特别神经痛区域在很大程度上是焊料化合物,其尺寸也跟着持续小型化。建立的标准和标准设置焦点上接受上破坏性检查方法以目测检查的明确奖目的焊点(无论尺寸或电镀的几何形状)的。即使在以最高的产品类(类3或C类),约整个系统的可靠性合理的怀疑的验收标准的权利,而施工和连接技术的估计被满足。基于在航空电子部门所要求的高度上可接受的系统中,添加剂规格正变得越来越重要,以保持在电子平面组件的降低系统整数,因此。扩展位置的评价的一个重要部分是孔或空隙的条件,由通过X-射线通常确定。除了下机械相互作用,特别是由细孔降解珍品phanomena(更大)的细孔纺分辨率明显临界生成的单独考虑大规模存。根据既定的标准,遗憾的是,只有少数SMD对于设计毛孔边界值充分描述。本文示出的一个主题多呈考虑纯限值不合格的作为孔的结果的危险,用于通过孔相关的分辨率劣化的现象,其减轻或甚至避免了机会,以及方法。

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