Electron beam lithography; Nanowire design; ELPHY Quantum;
机译:直接写入电子束光刻技术的抗蚀剂掩模和纳米线形成
机译:反射电子束光刻:使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法
机译:通过Ni和电子束光刻之间的固态反应通过Ni和电子束光刻中的镍硅化物纳米线的线宽和生长行为制备Si纳米线
机译:使用基于SEM的电子束光刻(EBL)技术形成单电子晶体管的纳米线:正电势与负电势电子束电阻
机译:使用电子束光刻技术制造单纳米线器件。
机译:电子束光刻技术精确订购TiO2纳米线气体传感器的传感性能
机译:坡莫合金纳米线中畴壁行为的直接比较 通过电子束光刻和聚焦离子束铣削来图案化