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【24h】

Synthesis of Imide Monomers for Application to Organic Photosensitive Interdielectric Layer

机译:酰亚胺单体的合成应用于有机光敏interdiel层

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摘要

A negative photoresist formulation was developed utilizing synthesized UV monomers containing imide linkage, photoinitiator, UV oligomer, and alkali developable polymer matrix. It was found that via-holes with good resolution, high transmittance and thermal resistance could be obtained by photolithographic process utilizing the negative-type photoresist formulations.
机译:利用含有酰亚胺连杆,光引发剂,UV低聚物和碱可涂聚合物基质的合成UV单体进行负光致抗蚀剂制剂。发现具有良好分辨率,高透射率和热阻的通孔可以通过使用负型光致抗蚀剂制剂的光刻工艺获得。

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