ultraviolet cross-link material; coater; planarization; gap filling; imprint; etch protecting layer; barrier layer;
机译:先进的紫外线交联工艺和用于整体平坦化的材料
机译:通过第一个双镶嵌工艺在32-45nm的金属沟槽中进行图案化的紫外线交联间隙填充材料和平面化应用
机译:自交联底部抗反射涂层和间隙填充材料在ArF光刻中降低升华缺陷的研究
机译:紫外线交联工艺采用旋涂材料进行先进的平面化和升华缺陷减少
机译:具有材料和工艺不确定性的热挤压和轧制中减少缺陷的计算方法。
机译:热升华显示三维立体纹理和软质材料分层缺陷
机译:通过化学机械平面化工艺优化来减少磷化镍涂层衬底的缺陷