机译:脉冲电感耦合等离子体中三维高纵横比硅结构蚀刻模型
机译:InP中高纵横比纳米级沟槽的基于HBr的电感耦合等离子体蚀刻:光子应用的考虑因素
机译:用于高纵横比蚀刻熔融二氧化硅,硼硅酸盐和铝硅酸盐玻璃基板的高纵横比蚀刻的电感耦合等离子体反应离子蚀刻工艺
机译:电感耦合等离子体刻蚀制造高纵横比的块状钛微零件
机译:砷化镓背面通过芯片通孔集成,使用电感耦合等离子体蚀刻。
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:利用超低压电感耦合等离子体刻蚀制备Inp异质结构中的高纵横比双槽光子晶体波导