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TiO_2多層薄膜の光触媒特性における電界印加効果

机译:TiO2多层薄膜光催化性能的电场应用效果

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摘要

近年,TiO_2は様々な特性が注目されており,広い分野で研究がなされている。特に光触媒特性では防汚,抗菌作用などがあり,ビル外壁や手術室の内壁などに応用されている。しかしTiO_2の欠点として吸収波長が紫外光に限られており可視光での光触媒効果が低い。その対策として,種々の方法による可視光応答化とともに,薄膜に電界印加や磁界印加を行うことで光触媒効果の向上が期待されている1)。本研究では,電界印加効果の確認とTiO_2/Ni薄膜の各膜厚を変化させることで,光触媒特性への影響を調査した。
机译:近年来,TiO_2引起了各种特征的关注,并在广阔的地区进行了研究。 特别地,光催化性质包括防污和抗微生物作用,并施加到建筑物外壁和手术室的内壁上。 然而,作为TiO_2的缺点,吸收波长限于紫外线,并且可见光中的光催化效果低。 作为对策,预期薄膜通过通过各种方法1的可见光响应执行电场应用或磁场施加来改善光催化效果。 在这项研究中,我们通过确认电场施加效果和改变TiO_2 / Ni薄膜的厚度来研究对光催化特性的影响。

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