スルファミン酸ニッケル浴からのニッケル皮膜に及ぼすハロゲンイオンの影響

摘要

ニッケルめっき皮膜には，電着応力や硬さなどの機械的性質が重要であり，様々な目的で多種にわたり使用されている．スルファミン酸ニッケル浴から得られるめっき皮膜は，高電流密度電析が可能であり，応力が低いことから，電鋳などに使用されている1）．また，皮膜硬度が高く耐摩耗性や耐摺動性が求められる製品にも用いられている．