TFl1; FEP-171; DUV laser; sigma7500; photomask; laser pattern generator;
机译:用于248 nm L / S图案印刷的高级正DUV抗蚀剂的优化
机译:248 nm光刻中亚100 nm图案高透射率AttPSM的应用仿真
机译:使用空间光调制器的新型DUV激光图案发生器
机译:在248 nm DUV激光图案发生器上评估带有TF11铬和FEP-171抗蚀剂的PSM光掩模的衰减空白
机译:使用257nm光学图案发生器表征用于光掩模制造的非化学放大抗蚀剂