Three Dimensional Mask Effect; Electromagnetic Field Effect; Process Model;
机译:在32nm半间距节点上进行二维双图案化的三种光刻工艺光刻方法
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机译:极紫外光刻中16纳米半间距蚀刻多层掩模的掩模三维效应
机译:使用严格仿真为三维掩模效应开发32nm半间距节点OPC工艺模型
机译:严格将高级的降维梁模型连接到三维有限元模型。
机译:音高尺寸处理中的神经可塑性:失配负性的多维缩放分析
机译:三个Litho-Process-Litho在32nm半间距节点处的2D双图案化方法