机译:FDSOI MOSFET中背氧化层厚度变化对模拟电路性能的影响研究
机译:SOI厚度波动对超薄体SOI MOSFET阈值电压变化的影响
机译:采用28 nm完全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)技术的2.45 GHz 0.8 mW压控环形振荡器(VCRO)
机译:在超薄SOI上具有出色的硅厚度均匀性,可控制FDSOI的Vt变化
机译:化学控制硅上超薄膜和氨基端接层的形成和反应性。
机译:FinFET和带铁电电容器的全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)MOSFET的磁滞窗口研究
机译:低功耗超薄双栅sOI逻辑电路VT控制方法的优化
机译:控制最小土层厚度的因素