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机译:FDSOI MOSFET中背氧化层厚度变化对模拟电路性能的影响研究
Jadavpur University, India;
Jadavpur University, India;
Jadavpur University, India;
Jadavpur University, India;
silicon-on-insulator; analogue integrated circuits; logic gates; low-power electronics; MOSFET circuits; radiofrequency amplifiers;
机译:体和氧化物厚度变化对地下DG-MOSFET的模拟和RF性能的研究
机译:在沟道工程深亚微米n-MOSFET器件上研究混合信号应用中不同等效氧化物厚度的栅极介电常数变化
机译:FDSOI的背面氧化物厚度对SRAM性能的影响
机译:栅极氧化物厚度对1200 V 4H-SiC反向沟道MOSFET的开关和短路性能的影响
机译:研究栅极氧化层击穿和热电子对CMOS电路性能的影响。
机译:FinFET和带铁电电容器的全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)MOSFET的磁滞窗口研究
机译:由于局部氧化物厚度变化,癸烷mOsFET中的固有阈值电压波动