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【24h】

シリコン単結晶中の侵入型不純物がBDT挙動に及ぼす影響

机译:硅单晶中入侵型杂质对BDT行为的影响

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摘要

Si単結晶はSt.Johnによる先肺勺な研究を契機として,脆性一延性遷移(Brittle-to-Ductile Transition: BDT)挙動解明のためのモデル材料として用いられてきた.そして,その後に続く様々な研究からBDT挙動は熱括性化過程であり,転位運動の易動度により律速されていることが明らかになった.このことは,添加元素,固脚物の添加により結晶中の転位易動度が変化すると, BDT挙動も影響を受ける事を示唆している.Si単結晶はCzokchralski(CZ)法で多く作成されているが,CZ法で作成されたSi単結晶には不純物として酸素が必ず入り込むことが知られている.またシリコンの力割勺な強度を高めるために,窒素を不純物として添加する試みがなされている.
机译:的Si单晶是圣如由John,脆一个韧转变到先前的肺浇包工作的响应(脆韧转变:BDT)已经被用作用于阐明的行为的模型材料。然后,从其后跟随各种研究BDT行为是热批增溶过程中透露,它是限速的位错运动的流动性。这是添加元素,并通过加入Kataashi产品变化在晶体中的位错的移动性,这表明也影响BDT行为。尽管在Si单晶在Czokchralski(CZ)方法多创建的,在Si单晶制备是已知的CZ法总是进入氧作为杂质。为了增加的力分割硅的钢包强度,添加氮,因为它已经做出的杂质的一种尝试。

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