SOI; ultra-thin gate oxide; low-frequency noise; lorentzian noise;
机译:1.5纳米直接隧穿栅极氧化物MOSFET的制造可行性研究:栅极氧化物的均匀性,可靠性和掺杂剂渗透
机译:在5 nm HfO_2 / 2.1 nm SiO_2栅堆叠n-MOSFET中隧穿1 / f〜γ噪声
机译:具有隧穿氧化物和背栅偏置的全耗尽SOI MOSFET中的栅诱导浮体效应
机译:通过SOI MOSFET中的2.5nm栅极氧化物噪声和隧道
机译:通过隧道外延,使用氮化的热氧化物作为栅绝缘体,开发自对准双栅MOSFET的工艺流程。
机译:具有高k La2O3 / ZrO2栅极电介质的肖特基势垒SOI-MOSFET
机译:基于陷阱辅助隧穿的超薄氧化物MOSFET的1 / F噪声模型
机译:多晶硅栅极对具有薄栅氧化层的亚100nm mOsFET中随机掺杂诱导阈值电压波动的影响