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ウェットブラスト加工に関する基礎的研究-投射固体粒子径の単結晶Siウェハの表面加工特性と加工メカニズムへの影響

机译:具有投影固体粒径的单晶Si晶片湿式喷射处理表面处理特性的基础研究及加工机构的影响

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摘要

著者らは,硬質薄膜の表面強度や摩耗特性を固体粒子衝突試験法(マイクロスラリージェットエロージョン法;MSE)で評価できることを報告している.一方,微粒子の投射を用いるブラスト工法は,材料表面にチッピング,クラックなどの発生が少ないため,電気電子·半導体部品の表面微細加工などへの適用が期待されている.しかし,粒子の大きさが材料の表面加工に及ぼす影響は十分解明されていない.そこで本報告では,薄膜評価用のMSE装置を加工用のブラスト装置に改造して,粒子径が半導体材料のSiウェハ表面の加工特性と加工メカニズムに及ぼす影響について研究した結果を述べる.
机译:作者报告说,可以通过固体颗粒碰撞试验方法(MSE)来评估硬薄膜的表面强度和耐磨性。另一方面,使用细颗粒的突出物的喷射方法预期应用于电气和半导体部件的表面精细处理,因为它在材料的表面上产生较少,裂缝等。然而,颗粒尺寸对材料表面处理的影响尚未得到阐明。因此,在本报告中,我们描述了研究MSE设备对处理爆破装置的薄膜评估的影响的研究结果,以及半导体材料的Si晶片表面的处理特性的影响加工机制。

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