机译:黑色硅法-在轮廓控制下确定深硅沟槽刻蚀中基于氟的反应离子刻蚀参数设置的通用方法
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机译:Mosfets氧氮化硅栅介质的物理厚度和氮浓度的电气测量方法
机译:AFM轮廓的去卷积在Etch / AFM方法中的应用,该方法用于测量100nm以下深结n + / p硅MOSFET中的二维掺杂剂浓度
机译:深度反应离子刻蚀的单晶硅器件的热迁移结隔离及其在惯性导航系统中的应用。
机译:黑硅方法:通过轮廓控制确定深硅沟槽蚀刻中氟基反应离子蚀刻机参数设定的通用方法