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Thermal and Mechanical Properties of SU8 Negative Photoresist Coatings

机译:SU8负光致抗蚀剂涂层的热和力学性能

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摘要

Being first developed by IBM in 1989,SU8 is an epoxy-based resist designed specifically for ultrathick,high-aspect-ratio Micro-Electrical Mechanical Systems (MEMS) type applications.Several important properties of SU8 make it suitable for such applications.
机译:SU8是由IBM开发的首次开发,SU8是一种专为超ick,高纵横比微电电机系统(MEMS)型应用而设计的环氧基抗蚀剂。SU8的重要特性使其适用于这些应用。

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