LIGA; MOEMS technology; micro-optic structure; mask; LIGA microspectrometer; electron beam lithography; absorber shape; optical fabrication; spectrometers; micro-optics; electron beam lithography; masks;
机译:电子束光刻产生的光学结构掩模的形状偏差
机译:反射电子束光刻:使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法
机译:校正电子束块曝光柱中投影图像形状的偏差
机译:以LIGA显微分光计为例的电子束光刻的吸收体形状偏差
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:电子束与聚焦离子束光刻技术制备的等离激元天线的比较研究
机译:电子束光刻技术用于实现具有大拓扑电荷(L =1000ħ)的电子束涡旋