机译:膜厚和溅射功率对无氧RF磁控溅射沉积ITO薄膜性能的影响
机译:溅射沉积Zn前驱体膜厚和退火时间对金属靶顺序反应溅射沉积Cu2ZnSnS4薄膜性能的影响
机译:?“溅射氧化银薄膜的结构和形态特性:薄膜厚度的影响”
机译:溅射Li_5MN_2O_4薄膜电化学性能的薄膜厚度效应
机译:通过沉积方法和膜厚控制和设计PECVD碳掺杂低k二氧化硅薄膜的关键性能。
机译:通过共溅射和溅射气体聚集获得的CO-Cu薄膜的磁传输性能
机译:基板温度和膜厚对HPPMS和直流磁控溅射Ge薄膜的热,电和结构性能的影响