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【24h】

Electrodeposition mechanism of PbSe and PbTe epitaxial films on InP single crystals

机译:INP单晶PBSE和PBTE外延膜的电沉积机制

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摘要

The lead chalcogenide narrow-gap semiconductors PbS,PbSe,PbTe have been applied in infrared detectors and thermal photovoltaic energy converters.The production of photonic devices implies an heteroepitaxial growth on Si or III-V semiconductors.We showed recently that PbSe can be epitaxially electrodeposited on InP single crystals thanks to the addition of Cd~(2+)in the electrolyte(1).In this study the growth mechanism of PbSe and PbTe films,epitaxied on (111)InP,is examinated.
机译:铅硫属化物窄间隙半导体PBS,PBSE,PBTE已应用于红外探测器和热光伏能量转换器。光子器件的产生意味着Si或III-V半导体上的异质生长.WE显示PBSE可以外延电沉积在INP单晶中,由于电解质(1)中的CD〜(2+)。在该研究中,审查(111)INP上的PBSE和PBTE膜的生长机制。

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