germanium; hafnium compounds; tantalum compounds; interface states; MOS capacitors; substrates; semiconductor device measurement; MOSFET; electrical faults; characteristics measurement; germanium substrate; hafnium oxide; tantalum nitride; gate stack; interface states; MOS capacitors; gated diodes; conductance analysis; p-substrate capacitors; n-substrate capacitors; junction leakage; Ge-HfO/sub 2/-TaN;
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