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【2h】

Interface chemistry modulation and dielectric optimization of TMA-passivated HfDyOx/Ge gate stacks using doping concentration and thermal treatment

机译：用掺杂浓度和热处理的TMA钝化HFdyox / GE门堆的接口化学调制与介电优化

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Die Wang; Gang He; Zebo Fang; Lin Hao; Zhaoqi Sun; Yanmei Liu;
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年度 2020
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