机译:后退火时间对通过脉冲激光沉积(PLD)在MgO(100)单晶衬底上生产的Bi(2)Sr(2)CalCu(2)O(8-偏导数)薄膜的生长机理的影响
机译:通过脉冲激光沉积在MgO(111)上生长单晶Cu(111)膜
机译:脉冲激光沉积在Pt包覆的MgO上的Y掺杂SrZrO_3柱状薄膜的生长和微观结构
机译:脉冲激光沉积技术的105K(BIPB)2SR2CA2CU3O10在MgO上生长
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:纳秒和飞秒脉冲激光沉积法生长和表征Cu(InGa)Se2薄膜
机译:后退火时间对通过脉冲激光沉积(PLD)在MgO(100)单晶衬底上生产的Bi2Sr2Ca1Cu2O8 +薄膜的生长机理的影响