机译:尾态联合密度法研究氢化非晶碳化硅薄膜的室温光致发光光谱及其在等离子体沉积氢化非晶碳化硅薄膜中的应用
机译:用光混合技术研究沉积条件对本征氢化非晶硅和氢化非晶碳化硅薄膜传输性能的影响
机译:非晶氢化碳化硅薄膜与碳化硅的低温直接键合工艺及机理
机译:氢化非晶碳化硅膜的表征
机译:PECVD氢化非晶硅膜和HWCVD氢化非晶硅膜的质子NMR研究。
机译:通过快速热退火工艺增强氢化非晶碳化硅薄膜的光致发光
机译:氢化非晶锗和氢化非晶碳化锗薄膜的制备与表征
机译:添加到阅览室阅读软件下载与<<辉光放电分解制备离子镀和氢化非晶硼薄膜制备氢化非晶硅薄膜及其表征>>相似的文献。最终报告,1980年4月1日至1981年5月31日