JMONSEL; defect detection; multi-column; electron-beam defect inspection; EBI; SEM; particle inspection; massively parallel;
机译:通过选择性电子束光刻和干法刻蚀对亚20纳米金纳米缝隙进行新颖的PMMA / NEB双层工艺
机译:使用聚焦电子束诱导工艺制造的20 nm以下图案的尺寸和形状控制
机译:分子尺法与电子束光刻技术相结合实现20nm以下混合纳米加工
机译:模拟大规模平行电子束检查以检查20 nm以下的缺陷
机译:用于高速光刻和缺陷检查的分布式轴电子束系统。
机译:使用带有GeNN的代码生成方法在大规模并行图形处理单元上模拟尖刺神经网络
机译:电束诱导沉积沉积沉积沉积沉积的研究
机译:热冲击实验(TsEX):使用电子束加热模拟参考Theta-pinch反应堆(RTpR)第一壁预期的热机械环境的“原理验证”评估