EUV lithography, chemically amplified resist, polymer, molecular weight, photoacid generator;
机译:用于EUV光刻的新型阴离子光酸产生剂结合的聚合物抗蚀剂
机译:用于EUV和电子束光刻的新型分子抗蚀剂
机译:用于EUV和电子束光刻的新型分子抗蚀剂
机译:抗蚀剂聚合物分子量EUV光刻的影响
机译:新型树枝状聚合物作为下一代光刻的抗蚀剂材料的设计,合成和评估。
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:开发用于EUV光刻的非CAR抗蚀剂的聚合物