机译:通过烃类气体的等离子浸入离子注入形成的碳化硅和碳化硼薄膜
机译:植入后退火过程中,用石墨覆盖层保护选择性植入和构图的碳化硅表面
机译:植入浅p / n结的激光退火条件的优化
机译:在碳化硅中植入p〜+ n结
机译:6氢碳化硅和4氢碳化硅中本征和离子注入引起的缺陷的电学和光学表征。
机译:错误:PolozovI.等。碳化硅纤维增强碳化硅基质复合材料的制造使用粘合剂喷射添加剂制造不规则形状和球形粉末。材料2020131766
机译:用于先进热机应用的碳化硅与碳化硅和氮化硅与氮化硅的连接的分析和实验评估
机译:碳化硅基材料的高温发射率。第1卷:碳化硅基材料的高温正常光谱发射率。第2卷。热处理对碳化硅基材料发射率的影响。专题报道