pH緩衝溶液を利用したNiZnフェライト薄膜の作製とノイズ抑制評価

机译：使用pH缓冲溶液的Nizn铁氧体薄膜的生产和噪声抑制评估

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スピンスプレー法は結晶化したスピネルフェライト膜を真空設備や高湿熱処理を必要とせずに成膜可能な水溶液プロセスである．加えて，100°C以下の低温条件下にて容易に作製出来ることから，半導体デバイスが存在する基阪上へも直接堆積できる特徴を有している．本発表では緩衝剤を使用することにより溶液pH条件を厳密に制御し，NiZnフェライト薄膜の作製ならびにネットワークアナライザによるGHz域伝導ノイズ抑制評価を行った．

机译：旋转游戏方法是可以沉积的水溶液过程，而不需要真空设备和高湿度热处理结晶的尖晶石铁氧体膜。另外，由于可以在100°C或更小的低温条件下容易地生产，因此它具有可以直接沉积在本发明的特征。在本介绍中，通过使用缓冲液严格控制溶液pH条件，并通过网络分析仪的Nizn铁氧体薄膜的产生和GHz区域传导噪声抑制的评估。

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来源
《粉体粉末冶金協会大会》|2014年||共1页
会议地点
作者
渡邉哲朗; 勝又健一; 岡田清;
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中图分类 TF1-532;
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