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【24h】

Selective Rapid Thermal Oxidation of Silicon vs. Tungsten using Oxygen in Hydrogen

机译:使用氢气在氢气中选择性快速热氧化硅与钨

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摘要

Process behavior associated with the selective oxidation of silicon (Si) vs. tungsten (W) by oxygen (O2) in hydrogen (H2) has been studied in Applied materials radiancetrade chamber. New data is obtained for SiO2 growth on
机译:在应用的材料中研究了与氢气(O 2 )中氧化硅(Si)与钨(W)的选择性氧化相关的处理行为(H 2 )放射性室。获得新数据,用于SIO 2 增长

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