MOSFET; adsorption; dielectric thin films; nitridation; plasma materials processing; process control; MOSFET; TDDB characteristic; adsorbed organic contaminant; clean room atmosphere; electrical thickness; nitrogen concentration; plasma nitridation process; post nitr;
机译:掺氮对超薄氮氧化硅薄膜能带取向的影响,随等离子体氮化条件的变化
机译:等离子体氮化制备Si(100)超薄氮氧化硅薄膜中的氮键结构
机译:快速热氧化结合微波激发等离子体氮化法生长的氮氧化硅薄膜中的陷阱辅助漏电流传导
机译:气氛对精确控制等离子体氮化工艺的超薄氧氮化膜的影响
机译:活性氮中硅的热氮化(薄介电体,等离子体处理,超大型材料,氮化硅,氧化硅)
机译:氧等离子体处理并涂覆纳米结构羟基磷灰石超薄膜用于引导骨再生过程的聚乳酸-共-乙醇酸(PLGA)膜的体外和体内研究
机译:等离子体氮化制备超薄SiON薄膜的电学和结构性能
机译:超薄膜中微处理控制的取向