silicon dioxide; insulating properties; surface passivation; amorphous carbon;
机译:N_2O / SiH_4流量比对电感耦合等离子体化学气相沉积法制备非晶硅氧化物薄膜的影响及其在硅表面钝化中的应用
机译:碳掺杂氧化硅低介电常数薄膜的后沉积氦等离子体处理可减少氧等离子体的损害
机译:低温等离子体化学气相沉积法生长非晶硅膜表面粗糙度演变的实验和理论研究
机译:非晶碳膜的低温沉积,用于碳掺杂氧化硅的表面钝化
机译:非晶碳和非晶硅膜的沉积,表征和器件应用。
机译:使用溶液法低温制造用于非晶铟-镓-氧化锌薄膜晶体管的HfO2钝化层
机译:氧化硅膜在氧化硅膜中微晶硅膜的化学气相沉积中界面非晶层去除氢等离子体的影响
机译:通过脉冲激光沉积生长的四面体配位非晶类金刚石碳膜的表面结构