semiconductor thin films; delamination; van der Waals forces; buckling; finite element analysis; buckle-driven delamination; thin film delamination; Casimir force interaction; van der Waals force interaction; indentation test; thin film interfacial adhesion; linear elastic fracture mechanics; post-buckling theory; post-buckling response; FEM calculation; double-buckling response; strain energy release rate; post-buckling behavior;
机译:超薄水层对金表面间范德华/卡西米尔力的影响
机译:范德华相互作用对氧化硅界面超薄液膜形态和动力学的影响
机译:范德华力和卡西米尔力影响下的固定-固定纳米束的引入特性的广义闭合形式近似
机译:带扣驱动的薄膜分层以及卡西米尔或范德华力相互作用的影响
机译:通过原子力显微镜在聚合的10,12-壬二芥子酸的氮化硅,金和Langmuir-Blodgett膜的表面之间测量范德华力。
机译:零和有限温度下核振动对范德华力和卡西米尔相互作用的影响
机译:超薄水层对金表面间范德华/卡西米尔力的影响