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【24h】

Inversion domain nucleation in homoepitaxial GaN

机译:同性记甘杆菌中的反转域成核

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摘要

Homoepitaxial GaN grown by metal organic chemical vapour deposition on the N-polar surface of bulk GaN commonly exhibits gross hexagonal pyramidal features, typically 5 to 50μm in size, depending on layer thickness. The evolution of these defects is dominated by the growth rate of an emergent core of inversion domain (typically 100nm in size). The associated nucleation events are considered to be thin bands of amorphous gallium hydroxide (2 to 5nm in thickness) remnant from the standard KOH chemo-mechanical substrate polishing procedure used.
机译:由金属有机化学气相沉积在散装GaN的N极面上生长的同性端甘甘盖通常表现出六边形金字塔型特征,通常为5至50μm,取决于层厚度。这些缺陷的演变是由反转域的紧急核心的生长速率(通常为100nm)的增长。相关的成核事件被认为是从使用的标准KOH化学机械基底抛光过程中留下的无定形氢氧化镓(厚度为2至5nm)的薄带。

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