e-beam lithography; x-ray lithography; intermediate mask; HARMS;
机译:高纵横比微机电系统应用的高分辨率x射线掩模
机译:高纵横比微机电系统应用的高分辨率x射线掩模
机译:气体辅助聚焦离子束快速制作高纵横比,高分辨率X射线掩模的原型
机译:用于高纵横比微机电系统(HARMS)的高分辨率X射线掩模
机译:在微机电系统的高密度等离子体源中干法蚀刻高纵横比的硅微结构。
机译:医学成像系统的光学演示与高分辨率动态X射线成像仪的EmCCD传感器阵列的使用
机译:表面微机电系统的系统掩模合成
机译:通过气体辅助聚焦离子束快速进行高纵横比,高分辨率X射线掩模的原型设计