聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源

王凯歌; 王雷; 王鹏业; 牛憨笨

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聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源

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利用电子束离子源(EBIS)或者电子束离子陷阱(EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面,离子束与靶面作用并复合辐射特征X射线;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑X射线.本文介绍这一新型微束斑X射线源的结构、机理及其特性等.

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来源
《应用光学》|2004年第1期|5-838|共5页
作者
王凯歌; 王雷; 王鹏业; 牛憨笨;
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作者单位

中科院,物理研究所,软物质实验室,北京,100080;

中科院,西安光学精密机械研究所光电子部,陕西,西安,710068;

西安应用光学研究所,第8研究室,陕西,西安,710065;

中科院,物理研究所,软物质实验室,北京,100080;

中科院,西安光学精密机械研究所光电子部,陕西,西安,710068;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 X射线;
关键词
微束斑X射线源; 电子束离子源; 电子束离子陷阱; 离子光学聚束系统;
入库时间 2023-07-25 15:03:42

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