silicon; silicon compounds; elemental semiconductors; semiconductor thin films; solar cells; plasma CVD; oxidation; passivation; rapid thermal processing; carrier lifetime; electrical resistivity; surface passivation layers; oxide stacks; nitride stacks; silicon solar cells; classical thermal oxidation; RTO; rapid thermal oxidation; silicon nitride; SiO/sub 2/ stack; SiN/sub x/ stack; carrier lifetime; PECVD; electrical resistivity; 1361 mus; 675.6 mV; 1 ohmcm; 300 to 400 mus; Si; Si-SiO/sub 2/-SiN/sub x/;
机译:作为晶体硅太阳能电池钝化层的氧化硅和氮化硅涂层的电容电压特性及其抗x辐射稳定性的研究
机译:氧化钽/氮化硅:用于硅太阳能电池的带负电的表面钝化叠层
机译:在沉积用于硅太阳能电池的全PECVD AlOx / a-SiNx钝化叠层之前,先对硅表面进行湿式化学氧化
机译:使用氧化硅太阳能电池氧化物/氮化物堆的各种表面钝化层的研究
机译:氮化硅(氢)层对多晶硅太阳能电池的表面和整体钝化:建模和实验。
机译:使用优化的n型氧化硅正面场层提高后发射极硅太阳能电池的效率
机译:用于硅太阳能电池表面钝化的非晶硅和氮化硅叠层的时间和热稳定性
机译:通过快速热氧化物/ pECVD氮化硅叠层有效钝化低电阻率硅表面及其在钝化后部和双面si太阳能电池中的应用