机译:作为晶体硅太阳能电池钝化层的氧化硅和氮化硅涂层的电容电压特性及其抗x辐射稳定性的研究
Fraunhofer ISE, Laboratory and Servicecenter Gelsenkirchen, Auf der Reihe 2, 45884 Gelsenkirchen, Germany;
Fraunhofer ISE, Laboratory and Servicecenter Gelsenkirchen, Auf der Reihe 2, 45884 Gelsenkirchen, Germany;
Fraunhofer ISE, Laboratory and Servicecenter Gelsenkirchen, Auf der Reihe 2, 45884 Gelsenkirchen, Germany;
capacitance-voltage; interface traps; plasma-enhanced chemical vapor deposition; silicon oxide; silicon nitride; solar cells; passivation; x-ray induced degradation;
机译:用于晶体硅太阳能电池的具有氮化硅和氧化硅的双抗反射涂层
机译:用于晶体硅异质结太阳能电池的本征非晶硅氧化物和非晶硅叠层钝化层
机译:使用微光致发光光谱法表征晶体硅太阳能电池中的非晶硅,氮化硅和扩散层
机译:反应磁控溅射氮化硅层钝化结晶硅太阳能电池
机译:氮化硅(氢)层对多晶硅太阳能电池的表面和整体钝化:建模和实验。
机译:单结GaAs太阳能电池上溅射的二氧化硅氧化铟锡和二氧化硅/氧化铟锡抗反射涂层的电学和光学特性
机译:晶体硅太阳能电池非晶硅氮化物钝化层的电学特性
机译:通过快速热氧化物/ pECVD氮化硅叠层有效钝化低电阻率硅表面及其在钝化后部和双面si太阳能电池中的应用