机译:以双氮杂二甲基氨基丙基镓为单源前驱体的MOCVD法在c平面Al_2O_3上生长多孔柱状α-GaN层。
机译:通过HVPE生长比较在MOCVD-GaN / Al_2O_3和MOCVD-GaN / SiC样品上生长的GaN薄膜的应变
机译:通过在c面蓝宝石衬底上使用MOCVD生长的具有Pt纳米簇的InGaN / GaN外延层的微结构表征
机译:MoCVD使用双氨基二甲基氨基丙基镓作为单源前体的C型柱状α-GaN层的生长
机译:通过大气压金属有机化学气相沉积(AP-MOCVD)开发用于氧化锌薄膜生长的新型单源前驱体,用于微电子器件。
机译:在c面蓝宝石衬底上通过CVD进行大面积单层MoS2纳米片的分散生长和激光诱导的波纹
机译:用于LED制造的GaN,AlGaN和AlN层的生长:使用“热壁” MOCVD系统的生长条件研究
机译:在HpVE生长的模板和自支撑GaN衬底上的N型GaN层的mOCVD生长和蚀刻