attenuated phase shift mask; tunable optical transmission; sputter deposition; 157 nm lithography; 193 nm lithography; nitride; metal; Si-based composite;
机译:超薄TiO_2非晶薄膜,可同时用于157和193 nm波长的高透射率APSM空白
机译:用于ArF线高透射衰减相移掩模空白应用的(TiO2)(ZrO2)(x)-(Al2O3)(1-x)复合薄膜的光学模拟,优化设计和制造
机译:使用无定形Al_2O_3-ZrO_2-SiO_2复合薄膜的ArF线高透射率衰减相移掩模坯料,用于65、45和32 nm技术节点
机译:适用于193/157 nm衰减相移掩模(APSM)应用的新型硅基复合薄膜
机译:钛酸锶钡(BST)薄膜的介电性能和基于BST薄膜的移相器
机译:金属部件相变对薄膜纳米复合材料(COFEZR)X(MGF2)100-X的磁光性质的影响
机译:薄膜成像的最新进程抗蚀剂和193nm,157nm和EUV的加工