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193nmP光大角度减反射薄膜元件的制备方法

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摘要

193nm P光大角度减反射薄膜元件的制备方法，涉及ArF准分子激光应用技术领域，解决了P偏振态193nm激光光束大角度入射扩束棱镜组时，由于剩余反射导致该模块光学损耗过大的问题。本发明在采用真空热沉积方法在基底上交替沉积LaF

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2018-01-12

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B 1/11 授权公告日:20150218 终止日期:20161126 申请日:20121126

专利权的终止
2015-02-18

授权

授权
2015-02-18

授权

授权
2013-03-20

实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/11 申请日:20121126

实质审查的生效
2013-03-20

实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/11 申请日:20121126

实质审查的生效
2013-02-13

公开

公开
2013-02-13

公开

公开

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1. 193nmP光大角度减反射薄膜元件的制备方法 [P] . 中国专利： CN102928894B . 2015.02.18
2. 193纳米P光大角度减反射薄膜元件及其制备方法 [P] . 中国专利： CN103245984A . 2013-08-14
3. Antireflection coating film and antireflection coating material for optical element and optical element [P] . 美国专利： US9809714B2 . 2017-11-07

机译：光学元件的减反射涂膜及减反射涂料及光学元件
4. Antireflection coating film and antireflection coating material for optical element and optical element [P] . 美国专利： US8809421B2 . 2014-08-19

机译：光学元件的减反射涂膜及减反射涂料及光学元件
5. OPTICAL ELEMENT, REFLECTION REDUCING WORKING DEVICE, AND REFLECTION REDUCING WORKING METHOD [P] . 日本专利： JP2011048081A . 2011-03-10

机译：光学元件，减反射工作装置和减反射工作方法