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机译:Ⅲ/Ⅴ半导体刻蚀结果与电子回旋共振激发的高密度反应等离子体的物理参数的相关性
机译:III / V半导体蚀刻结果用电子回旋谐振激发高密度反应等离子体物理参数的相关性
机译:高密度等离子多晶蚀刻机中紫外线照射,离子轰击,电子遮蔽和等离子充电的复合效应
机译:用于电子材料蚀刻的高密度电子回旋共振和感应耦合等离子体源的比较:电子材料的新等离子体蚀刻方案。
机译:聚合物基底基于等离子体的表面工程中的粗糙度演变和带电:离子反射和二次电子发射的影响
机译:实时虚拟计量与控制\ ud 工业中的等离子体电子密度 等离子蚀刻室
机译:等离子体中有机化合物的生产:电火花,激光诱导等离子体和紫外光的比较