机译:氮化热SiO_2,用作自对准双栅绝缘体上硅金属氧化物半导体场效应晶体管的顶部和底部栅极绝缘体
机译:通过远程等离子体增强CVD和沉积后快速热退火制备的具有氮化的Si-SiO / sub 2 /界面的超薄氮化硅/氧化物堆叠栅极电介质的PMOSFET的性能和可靠性
机译:SiO / sub 2 /和低温氧化的氮化SiO / sub 2 /栅极绝缘体中的空穴传输(FET)
机译:用于双栅SOI-MOSFET中的薄埋栅绝缘体的氮化热SiO / sub 2 /
机译:通过隧道外延,使用氮化的热氧化物作为栅绝缘体,开发自对准双栅MOSFET的工艺流程。
机译:氧等离子体处理对采用PECVD SiO2栅极绝缘体的原位SiN / AlGaN / GaN MOSHEMT的影响
机译:Al和N-GaN之间的工作功能差异从Al门控N-GaN /氮化薄Ga2O3 / SiO2金属氧化物半导体结构
机译:具有快速生长的超薄siO2栅极绝缘体的mOs(金属氧化物半导体)器件的界面和击穿特性。