首页> 外文会议>応用物理学会学術講演会;応用物理学会 >有機酸により処理した単層WS2におけるバレー偏極の励起エネルギー依存性
【24h】

有機酸により処理した単層WS2におけるバレー偏極の励起エネルギー依存性

机译:用有机酸处理的单层WS2中谷极化在谷偏振中的激发能量依赖性

获取原文

摘要

単層二硫化タングステン(WS_2)は、運動量空間のKおよびK’バレーにおいてエネルギー極値を持ち、円偏光によりバレーの選択励起が可能な直接遷移半導体である。スピン軌道相互作用によりスピン分裂が生じるため、バレー偏極状態ではスピン偏極キャリアが生成し、バレー・スピン双方の自由度を活用できる新たな舞台となる。これまで単層WS_2において、円偏光励起フォトルミネッセンス(PL)測定において高いバレー偏極が観測されているが、励起子のバレー偏極について主に議論されてきた[1]。一方、単層WS_2を有機酸(トリフルオロメタンスルホン酸;TFSI, オレイン酸;OA)で表面処理した場合、PL 強度が促進し荷電励起子による発光が室温でも安定に観測されることが見出され、これまで TFSI を用いた研究が盛hに研究されている[2]。近年オレイン酸を用いて同様の効果が表れることが明らかとなったが[3]、励起子と荷電励起子のバレー偏極の詳細については未解明である。そこで本研究では単層WS_2に対しTFSI・OAによる表面処理を行い、円偏光PLの励起エネルギー依存性から低温におけるバレー偏極の安定性を調べた。
机译:单层硫化钨(WS_2)是通过圆偏振光能够有选择地激发山谷的直接跃迁半导体,具有在k和动量空间的K“volses能量极值。由于自旋分裂发生由于自旋​​轨道相互作用,在凌空偏振状态产生自旋极化载流子,它是一个可以利用两个谷自旋自由的新阶段。具有单层WS_2高谷极化,高谷极化在单层WS_2观察到,但激子谷偏振已经讨论主要[1]。在另一方面,当单层WS_2与有机酸(三氟甲磺酸; TFSI,油酸; OA)表面处理过的,PL强度得到促进,可以发现,通过电荷激励光发射,即使在室温稳定地观察到温度,使用TFSI的研究已经研究了向H.草案[2]近年来,它已经很清楚,类似的效果可用于显示与油酸,但激子和电荷激子的极化谷的细节undeleveled。因此,在此研究中,对单层WS_2执行具有TFSI·OA表面处理,并从圆偏振光PL的激发能量的依赖性进行了检查,在低温下的谷极化的稳定性。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号