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大電力パルススパッタぺニング放電により形成される窒化チタンのガス混合比依存性

机译:大功率脉冲溅射放电形成氮化钛的气体混合比依赖性

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摘要

窒素/アルゴン混合ガス下でチタンのHPPSぺニング放 電プラズマを生じさせ、チタン薄膜の形成を試みた。窒素 を混入すると成膜速度は低下するが、平均電力あたりの成 膜速度はあまり大きく低下しない。成膜には金属プラズマ を構成するイオンの寄与が大きいと考えられる。基板への バイアス電圧が薄膜の電気抵抗率に影響を及ぼしており、 バイアス電圧によって膜密度を制御できる可能性がある。
机译:在氮气/氩气的混合气体下生成了HPPS笔式放电放电钛等离子体,并试图形成钛薄膜。当混入氮时,成膜速率降低,但是每平均功率的成膜速率没有降低太多。认为构成金属等离子体的离子显着地促进了膜的形成。施加到基板的偏置电压影响薄膜的电阻率,并且偏置电压可以控制膜的密度。

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