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Process-optimization for sub-30 ps BiCMOS technologies for mixedECL/CMOS applications

机译:低于30 ps的BiCMOS混合工艺的工艺优化ECL / CMOS应用

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摘要

The authors present a 0.8 μm BiCMOS technology forhigh-performance digital applications. The underlying optimizationstrategy to trade off both bipolar vs. CMOS speed and cutoff-frequencyvs. collector-emitter breakdown voltage is described. Based on thisapproach 23.5 GHz cutoff frequency and 28 ps CML gate-delay times couldbe obtained for the bipolar device, making this technology perfectlysuited for mixed CMOS/ECL (emitter-coupled logic) types of applications.This is additionally proved by high-speed benchmark circuits such as 2:1frequency dividers operating up to 13.5 GHz
机译:作者提出了一种0.8μm的BiCMOS技术用于 高性能数字应用。基础优化 权衡双极与CMOS速度和截止频率的策略 对集电极-发射极击穿电压的关系进行了描述。基于此 接近23.5 GHz截止频率和28 ps CML栅极延迟时间 可用于双极型设备,从而使该技术完美 适用于混合CMOS / ECL(发射极耦合逻辑)类型的应用。 诸如2:1之类的高速基准电路进一步证明了这一点。 最高13.5 GHz的分频器

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