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50A大電流•790V耐圧縦型GaNショットキーバリアダオイードの開発

机译:50A大电流•790V耐压垂直GaN肖特基势垒Daoid开发

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摘要

ショットキー電極サイズ3×3mm~2までの自立GaN基板上縦型GaN SBDを作製し評価した.3×3mm~2のSBDは順方向電流50Aと耐圧790Vとを両立するパワーデバイスとして有望な動作を示した.また,Ⅰ-Ⅴ特性のショットキー電極サイズ依存性も解析した.その結果,順方向特性についてはいずれのショットキ一電極サイズに対しても理想的な振る舞いをした一方で,いずれのショットキー電極サイズでも逆方向電流は理論的に予想されるものより大きかった.逆方向電流の振る舞いについては引き続き調査が必要であるものの,n~--GaN層の改善により順方向大電流を維持しつつさらに高い耐圧が得られると考える.
机译:在肖特基电极尺寸为3 x 3 mm至2的自支撑GaN衬底上制造并评估了垂直GaN SBD,3 x 3 mm to 2的SBD是一种有希望的工作方式,既可实现正向电流,又可实现功率器件此外,还分析了肖特基电极尺寸对I-V特性的依赖性,结果表明,正向特性对于任何肖特基电极尺寸均理想,但对于任何肖特基电极,其正向特性均表现理想。肖特基电极尺寸,反向电流大于理论上的预期值,尽管仍然需要研究反向电流的行为,但通过改善n〜--GaN层可以保持正向大电流,但是我认为更高的耐受性可以获得电压。

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