机译:一种设计BIS-URACIL衍生物作为高效透明的PVC热稳定剂,具有优异的迁移阻力
机译:聚合物设计用于致密金属渗透,用于较高的干蚀刻性
机译:172nm VUV固化和使用梯度刮削制备的mu-FTIR干蚀刻工艺对ArF抗蚀剂中的结构进行深度剖析
机译:高度透明ARF设计的新策略,具有优异的干蚀刻性
机译:高度芳族单分子蚀刻掩模的抗蚀刻性机理和发展:迈向分子光刻。
机译:含和不含ZnO高阻透明缓冲层的CdTe电池的掺杂特性和能带排列数据
机译:ARF抗蚀剂在透明度和干蚀刻性抗性方面的研究。
机译:具有增强的耐干蚀刻性的共聚物的平版评价