Buffer layers; Doping; Semiconductor process modeling; Electric fields; Ions; MOSFET; Threshold voltage;
机译:线性掺杂缓冲层工程功率VDMOSFET单事件烧毁的仿真研究。
机译:使用中间InAs_yP_(1-y)逐步渐变缓冲液在InP衬底上生长的Si掺杂InAs_yP_(1-y)层中的载流子补偿和散射机理
机译:蓝宝石衬底上具有准渐变的alpha-(Al,Ga)(2)O-3缓冲层的刚玉结构alpha-Ga2O3层中边缘位错密度的降低
机译:梯度掺杂缓冲层对VDMOSFET中SEE失效的影响
机译:氧化锶-氧化铜-二氧化钛三元体系的各方面与钛酸锶和铜掺杂的钛酸锶薄膜缓冲层的沉积有关。
机译:直流磁控溅射性能的改进含保留Ar原子的Al掺杂ZnO多晶膜10nm厚的缓冲层
机译:阴极和掺杂二氧化铈之间用作钙氧化物燃料电池缓冲层的钙钛矿薄层的研究
机译:铍掺杂GaN缓冲层对外延alGaN / GaN异质结构电子性质的邻近效应