EUV Lithography; Mask Absorber Roughness; Replicated Multi-layer Roughness; Line-edge Roughness (LER); Line-width Roughness (LWR); Actinic Aerial Image; SEM; Power Spectral Density; Stochastics; Photon Shot Noise;
机译:使用航空和SEM图像分析评估EUV掩模对晶圆线宽粗糙度的影响
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