対向円筒型ターゲットを用いたRF磁化放電スパッタによるAZO透明導電薄膜合成

摘要

本研究では，ホロー電極内にAZO円筒ターゲットリングを配置し，低圧力で高密度なプラズマを発生させることで，AZO膜の成膜を行った.AZO膜の体積抵抗率は，10~(-4)Ω·cm程度であった.基板の外側部分で体積抵抗率がやや大きいことがわかった.可視光領域380～750nmにおけるAZO膜の透過率は，80％を超えていた.X線回折(XRD)の測定結果では，AZO膜は34.26°の回折ピークを持っており，(002)の軸に沿った優先配向を示し，圧縮応力を示していた.